Abstract Artificial nail removal method, artificial nail composition, artificial nail, artificial nail formation method, and nail technique kit An object of the invention is to provide an artificial nail removal method by which the weight on the tip Finger or nail polish is reduced without compromising the merit of the glitter of nail decorations, and without using acetone at the time of removal. Another object of the invention is to provide a nail art kit and an artificial nail composition that are used for the artificial nail removal method, and an artificial nail using the artificial nail composition. A method of artificial nail removal including a step of applying an artificial nail composition to or above the nail of a human or animal, or on or above a support to form a coating film is disclosed； a step of drying and / or exposing to light the coating film, and thereby forming an artificial nail； and a removal step of removing the artificial nail by bringing the artificial nail into contact with a removal liquid, wherein the artificial nail composition includes (component a) a compound having an ethylenically unsaturated group and an acid group, and / or (component b) a polymer having an acidic group, and the removal liquid is an aqueous solution having a ph of 8 to 11.resumo “método para remoção de unha artificial, composição de unha artificial, unha artificial, método de formação de unha artificial, e kit da técnica para unha” um objetivo da invenção é fornecer um método de remoção de unha artificial pelo qual o peso na ponta do dedo ou unha é reduzido sem comprometer o mérito do brilho de decorações de unha, e sem usar acetona no momento da remoção. um outro objetivo da invenção é fornecer um kit da técnica para unha e uma composição de unha artificial que são usados para o método de remoção de unha artificial, e uma unha artificial que usa a composição de unha artificial. divulga-se um método de remoção de unha artificial incluindo uma etapa de aplicar uma
