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表面微細構造形成方法、構造体の製造方法
- 专利权人:
- 学校法人 名古屋電気学園;浜松ホトニクス株式会社
- 发明人:
- 岩田 博之,河口 大祐
- 申请号：
- JP20160156703
- 公开号：
- JP2018023991(A)
- 申请日:
- 2016.08.09
- 申请国别(地区):
- 日本
- 年份:
- 2018
- 代理人:
- 摘要：
- 【課題】急速かつ容易に加工対象物の表面に微細な構造体を形成することができる表面微細構造形成方法、及び構造体の製造方法を提供する。【解決手段】Ｓｉウェハ２００の内部にレーザ光の焦点１４０を合わせてレーザ光を照射して、Ｓｉウェハ２００のうちレーザ光の照射部分を局所的に加熱する。これにより、Ｓｉウェハ２００の表面２１０に構造体２３０として、表面２１０の一部が隆起した隆起構造、あるいは表面２１０の一部が凹凸した凹凸構造、あるいは隆起構造と凹凸構造との複合構造を形成する。この方法によると、レーザ光を照射する装置の他に洗浄、塗布、エッチング等のプロセスに必要な装置が不要になる。また、レーザ光を照射する工程の他に加熱等の他の工程やそのための準備が必要ない。したがって、急速かつ容易にＳｉウ
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
