一种基于S,S‑二氧‑二苯并噻吩单元的强双光子吸收共轭聚合物及其制备方法与应用
- 专利权人:
- 华南理工大学
- 发明人:
- 应磊,胡黎文,郭婷,杨伟,彭俊彪,曹镛
- 申请号：
- CN201710765101.1
- 公开号：
- CN107540823A
- 申请日:
- 2017.08.30
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2018
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明公开了一种基于S,S‑二氧‑二苯并噻吩单元的强双光子吸收共轭聚合物及其制备方法与应用。本发明通过Suzuki反应制备得到所述的基于S,S‑二氧‑二苯并噻吩单元的强双光子吸收共轭聚合物。本发明的基于S,S‑二氧‑二苯并噻吩单元的强双光子吸收共轭聚合物具有较强的电负性,吸电子能力强,并且由于其平面性好,以及与强的电子给体单元链接,有利于增强分子内电荷转移效应,提高了共轭聚合物的双光子吸收性能,在非线性光学领域和双光子荧光成像领域有巨大的发展潜力和前景。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
