次溴酸稳定化组合物的制造方法、次溴酸稳定化组合物、以及分离膜的抑污方法

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专利权人:

奥加诺株式会社

发明人:

吉川浩,染谷新太郎,都司雅人,大森千晴

申请号：

CN201480047664.1

公开号：

CN105517959A

申请日:

2014.05.12

申请国别(地区):

中国

年份:

2016

代理人:

刘新宇`李茂家

摘要：

本发明提供实质上不含溴酸根离子且杀菌性能优异、对于金属而言基本无腐蚀性、保存稳定性优异的单液系的次溴酸稳定化组合物的制造方法。次溴酸稳定化组合物的制造方法包括在非活性气体气氛下向含有水、碱金属氢氧化物和氨基磺酸的混合液中添加溴而使之反应的工序，溴的添加率相对于组合物的总量为25重量％以下。

来源网站：

中国工程科技知识中心

来源网址：

http://www.ckcest.cn/home/