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用于口腔清洁和/或处理装置的清洁单元
专利权人:
发明人:
L·P·H·舍费尔斯,R·巴特,C·R·荣达,L·C·格哈特,M·T·约翰森
申请号:
CN202180038399.0
公开号:
CN115666326A
申请日:
2021.05.20
申请国别(地区):
CN
年份:
2023
代理人:
摘要:
口腔清洁单元,例如用于口腔清洁和/或处理装置的头部,包括用于产生RF场以提供口腔清洁和/或处理功能的电极。该单元包括至少第一突出结构和第二突出结构,该第一突出结构和第二突出结构在相同的大体方向上远离基部或支撑结构突出。每个电极被包括一个或多个电极。这些突出结构被布置成彼此面对并且由一个空间或间隙分开,该空间或间隙被配置成能够接纳在该第一突出结构与第二突出结构之间被推动或插入其中的齿,并且这些突出结构在该齿的任一侧上延伸,即跨过该齿。当电极由RF信号适当地驱动时,这允许由突出结构构成的RF电极到达在牙齿侧面至少部分地向下的位置,更靠近齿间空间,使得能够更好地清洁齿间空间,并且可选地还使用与牙齿特征相互作用的RF能量/场进行感测。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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