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洗浄剤組成物
专利权人:
東邦化学工業株式会社
发明人:
野澤 卓司
申请号:
JP2008204276
公开号:
JP5545610B2
申请日:
2008.08.07
申请国别(地区):
JP
年份:
2014
代理人:
摘要:
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a cleansing composition which does not lose fine use feeling and conditioning effect to hair and skin even when an anionic surfactant as a cleaning component is mixed together, has a low irritation effect to hair and scalp, contains a cationic surfactant soft for skin, and, especially for damaged hair, has a smooth effect when washing hair and flexible, smooth and moistening effects when drying.SOLUTION: The cleansing composition comprises (A) a specific hydroxyl ether type cationic surfactant, (B) an anionic surfactant, and (C) an amphoteric surfactant and/or nonionic surfactant.COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT【課題】洗浄成分であるアニオン界面活性剤とともに配合した場合であっても毛髪や皮膚に良好な使用感とコンディショニング効果が損なわれることなく、かつ低刺激で毛髪および頭皮、皮膚に対して温和であるカチオン界面活性剤を含有し、特にダメージヘアに対する洗髪時の滑り性と乾燥時の柔軟性、滑らかさ、しっとり感が良好な洗浄剤組成物を提供すること。【解決手段】(A)特定のヒドロキシエーテル型カチオン界面活性剤、(B)アニオン界面活性剤及び(C)両性界面活性剤及び/又は非イオン性界面活性剤を含有してなる洗浄剤組成物。【選択図】なし
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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