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Hydroponic cultivation method of plants under high salt environment
专利权人:
積水化学工業株式会社
发明人:
小野 世吾,武内 稔公,中嶋 節男,岩佐 航一郎,藤上 真
申请号:
JP2017558062
公开号:
JPWO2017110626A1
申请日:
2016.12.14
申请国别(地区):
JP
年份:
2018
代理人:
摘要:
A method for hydroponically cultivating a plant to enable long-term cultivation of the plant in a high salt concentration environment is provided. It has a cultivation process of hydroponically cultivating a plant body with a cultivation solution having a sodium chloride concentration of 1% by mass or more, and at least a part of the root of the plant body once or twice in the middle of the cultivation process A hydroponic cultivation method of a plant in a high salt environment, wherein the salt tolerance of the plant body is maintained by performing a salt tolerance imparting treatment in which a salt tolerance imparting agent is contacted with the plant.高塩濃度環境下での植物体の長期間栽培を可能とするための、植物体の水耕栽培方法を提供する。植物体を、塩化ナトリウム濃度が1質量%以上である栽培用溶液で水耕栽培する栽培工程を有し、前記栽培工程の途中で1回又は2回以上、前記植物体の根の少なくとも一部に耐塩付与剤を接触させる耐塩性付与処理を行うことによって前記植物体の耐塩性を維持する、高塩環境下における植物の水耕栽培方法。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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