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Use Of Benzotriazole Derivatives For Photostabilisation
专利权人:
发明人:
뮐러, 스테판,기싱에르, 요헨,엘리스, 토마스,헤르조크, 베른트,쾨니크, 페터,크레이어, 길버트,쿠아스, 카차
申请号:
KR1020077024677
公开号:
KR1013902730000B1
申请日:
2006.04.20
申请国别(地区):
KR
年份:
2014
代理人:
摘要:
Use of benzotriazole derivatives of formula (1), wherein R1 is C1-C30alkyl; C1C5alkoxy; C1-C5alkoxycarbonyl; C5-C7cycloalkyl; C6-C10aryl; aralkyl; —SO3M; a radical of formula (1a) R3 is hydrogen; C1C5alkyl; C1C5alkoxy; halogen, preferably Cl; or hydroxy; R4 and R5 are each independently of the other hydrogen; or d-C5alkyl; m is 1 or 2; n is O or 1; if m=1, R2 is hydrogen; unsubstituted or phenyl-substituted d-C1-C12alkyl; or C6-C10aryl; if m=2, R2 is the direct bond; or —(CH2)p—; and p is 1 to 3; for enhancing the photostability of cosmetic or dermatologic compositions comprising at least one further organic UV absorber.적어도 하나의 추가 유기 UV 흡수제를 포함하는 화장품 또는 피부약 조성물의 광안정성을 증진시키기 위한 하기 화학식(1)의 벤조트리아졸 유도체의 용도:(1)상기 식에서,R1은 C1-C30알킬; C1-C5알콕시; C1-C5알콕시카르보닐; C5-C7시클로알킬; C6-C10아릴; 아르알킬; -SO3M; 또는 하기 화학식(1a)의 라디칼이고:(1a)R3은 수소, C1-C5알킬, C1-C5알콕시, 할로겐, 바람직하게는 Cl, 또는 히드록시이고;R4 및 R5는 서로 독립적으로 수소 또는 C1-C5알킬이고;m은 1 또는 2이고;n은 0 또는 1이고;m = 1인 경우,R2는 수소, 비치환 또는 페닐-치환 C1-C12알킬, 또는 C6-C10아릴이고;m = 2인 경우,R2는 직접 결합 또는 -(CH2)p-이고; 그리고p는 1∼3이다.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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