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牙科用组合物
专利权人:
登特斯普伊德特雷有限公司
发明人:
约阿基姆·E·克莱,M·迈尔,C·P·菲克,J·拉勒韦,J·P·福西尔,F·莫莱-萨瓦里,C·迪耶特兰,M·布兹提-泽雷利
申请号:
CN201780011259.8
公开号:
CN108697587A
申请日:
2017.04.07
申请国别(地区):
CN
年份:
2018
代理人:
摘要:
牙科用组合物包括(a)含单体组合(i)和(ii)、(i)和(iii)、(ii)和(iii)或(i)、(ii)及(iii),或含单体(iii)的均质相,其中(i)表示具有一个或多个可自由基聚合的碳‑碳双键的一种或多种化合物;(ii)表示具有一个或多个可阳离子聚合的基团的一种或多种化合物;且(iii)表示具有一个或多个可自由基聚合的碳‑碳双键与一个或多个可阳离子聚合的基团的组合的一种或多种化合物;(b)引发剂系统,其包含(iv)一个或多种具有下式(I)的自由基聚合引发剂,其中M是Ge或Si;R1、R2及R3可以相同或不同,独立地表示有机基团,并且R4表示氢原子、有机基团或有机金属基团;条件是当R4是氢原子时,引发剂系统另外包含在300至600nm范围内具有最大光吸收的感光剂化合物;(v)阳离子聚合引发剂,其选自下式(II)、(III)及(IV)的化合物:(II),其中R5和R6可以相同或不同,独立地表示可以具有取代基的芳基;且Y‑表示阴离子;(III),其中R7、R8及R9可以相同或不同,独立地表示可以具有取代基的芳基;且Y‑表示阴离子;(IV),R10、R11、R12及R13可以相同或不同,独立地表示可以具有取代基的烷基或芳基;且Y‑表示阴离子。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/
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