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아트락틸레노라이드 Ⅲ를 유효성분으로 함유하는 피부주름 개선용 화장료 조성물
专利权人:
ALPHACRYPTEC CO.;LTD
发明人:
HWANG, Sun-one,황선원
申请号:
KRKR2014/006846
公开号:
WO2015/012652A1
申请日:
2014.07.25
申请国别(地区):
WO
年份:
2015
代理人:
摘要:
The present invention relates to a cosmetic composition for reducing skin wrinkles, containing atractylenolide III as an active ingredient, and more specifically, to a cosmetic composition for reducing skin wrinkles, containing an atractylenolide III compound or a salt thereof as an active ingredient. Atractylenolide III of the present invention has remarkable MMP-1 expression inhibitory activities and no cytotoxicity, and shows a remarkable reduction in skin wrinkles, and thus can be useful as a functional material for reducing and preventing skin wrinkles.La présente invention concerne une composition cosmétique destinée à atténuer les rides cutanées et contenant de latractylénolide III en tant quingrédient actif et, plus précisément, une composition cosmétique destinée à atténuer les rides cutanées et contenant un composé de type atractylénolide III ou lun de ses sels en tant quingrédient actif. Latractylénolide III de la présente invention possède une remarquable action en matière dinhibition de lexpression de MMP-1, ne présente aucune cytotoxicité et atténue remarquablement bien les rides cutanées, si bien quil peut être utilisé en tant que matériau fonctionnel pour atténuer et prévenir les rides cutanées.본 발명은 아트락틸레노라이드 Ⅲ를 유효성분으로 함유하는 피부주름 개선용 화장료 조성물에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 아트락틸레노라이드 Ⅲ(atractylenolide Ⅲ) 화합물 또는 이의 염을 유효성분으로 함유하는 피부주름 개선용 화장료 조성물에 관한 것으로, 본 발명의 아트락틸레노라이드 Ⅲ는 MMP-1의 발현 저해능이 우수할 뿐만 아니라 세포 독성이 없고 피부주름 개선 효과가 뛰어나므로, 이를 피부주름 개선 및 예방을 위한 기능성 소재로 유용하게 사용할 수 있다.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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