光刻机匹配方法
- 专利权人:
- 中国科学院上海光学精密机械研究所
- 发明人:
- 茅言杰,李思坤,王向朝
- 申请号：
- CN201810811341.5
- 公开号：
- CN109031892A
- 申请日:
- 2018.07.23
- 申请国别(地区):
- 中国
- 年份:
- 2018
- 代理人:
- 张宁展
- 摘要：
- 一种光刻机匹配方法，本方法以空间像关键尺寸作为描述光刻机成像性能的参数，通过遗传算法优化像素化描述的光刻机的照明光源，实现光刻间高精度匹配。本发明充分利用了自由照明系统光源自由度高的优势，提高了现有方法的匹配精度，适用于具有自由照明系统的浸没式光刻机或干式光刻机之间的匹配。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
