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一种羟基化黑磷量子点水基溶液的制备方法和应用
专利权人:
清华大学
发明人:
任小勇,解国新,王伟,雒建斌
申请号:
CN201910327204.9
公开号:
CN110040703A
申请日:
2019.23.04
申请国别(地区):
CN
年份:
2019
代理人:
摘要:
本发明公开了属于新型纳米材料技术领域的一种羟基化黑磷量子点水基溶液的制备方法和应用。具体包括以下步骤:(1)将醇类有机溶剂加入黑磷中,经球磨、离心分离取上清液;(2)将步骤(1)所得上清液离心分离或旋转蒸发后,向所得沉淀物中加入水或醇水混合物,得到羟基化黑磷量子点水基溶液。本发明所制备羟基化黑磷量子点水溶液具有超低的摩擦系数和高抗磨性;能应用于制备薄膜晶体管材料、电池的负极材料、柔性显示材料、LED材料、光开关材料、生物传感器材料、光动力治疗试剂或光热治疗试剂、水基润滑液。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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