经修饰的大分子
- 专利权人:
- 星药股份有限公司
- 发明人:
- B·J·伯伊德,L·M·卡敏斯卡斯,C·J·H·波特,P·卡尔拉斯,G·Y·克里普纳,B·D·凯利,Z·吴,P·拉兹诺,S·帕利什
- 申请号：
- CN201510016746.6
- 公开号：
- CN104524596A
- 申请日:
- 2006.05.15
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2015
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明涉及具有受控的末端基团化学计量的大分子，所述大分子包括表面层、至少一个次表面层和至少2种末端基团，所述末端基团包括：其为药学活性剂的残基、其衍生物或为此的前体的第一种末端基团；和选择用于修饰所述药学活性剂和/或大分子的药代动力学的第二种末端基团，其中末端基团化学计量指所述末端基团的数目和类型。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
