The present invention describes a method for maximising and rendering uniform the contact surface on an implant by using a physical treatment (shot blasting) and a chemical treatment (anodic oxidation) which involves the use of a surfactant and certain oxidation parameters, and also relates to the implant obtained by the preceding method. Said implant is in particular a dental implant.La presente invenciόn describe un procedimiento para maximizar y uniformizar Ia superficie de contacto en un implante utilizando un tratamiento fisico (shot blasting) y un tratamiento quimico (oxidaciόn an㳍ica) que implica Ia utilizaciόn de un tensoactivo y determinados parametros de oxidaciόn, asi como el implante obtenido mediante el procedimiento anterior. Dicho implante es en particular un implante dental.Cette invention concerne un procédé permettant de maximiser et duniformiser la surface de contact dun implant au moyen dun traitement physique (grenaillage) et dun traitement chimique (anodisation) impliquant lutilisation dun tensio-actif et de certains paramètres doxydation. Cette invention concerne également limplant obtenu selon le procédé susmentionné. Plus particulièrement, cet implant est un implant dentaire.
