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Verfahren zur Bestrahlungsplanung und Bestrahlungsplanungseinrichtung
专利权人:
SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT
发明人:
GEMMEL, ALEXANDER, DR.,RIETZEL, EIKE, DR.
申请号:
EP12156706.9
公开号:
EP2510978A1
申请日:
2012.02.23
申请国别(地区):
EP
年份:
2012
代理人:
摘要:
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Bestrahlungsplanung für ein Partikeltherapie-Bestrahlungsverfahren, in der die zu applizierende Dosis entlang mehrerer in Strahlrichtung hintereinander folgenden Isoenergieschichten (13, 15, 17, 17) zu applizieren ist, umfassend folgende Schritte:- Vorgeben eines zu bestrahlenden Zielvolumens (11),- Bestimmen einer ersten Position einer proximalsten Isoenergieschicht (13) in Bezug auf das zu bestrahlende Zielvolumen (11),- Bestimmen einer zweiten Position zumindest einer weiteren Isoenergieschicht (17, 17), die distal zu der proximalsten Isoenergieschicht (13) liegt, in Bezug auf das zu bestrahlende Zielvolumen (11) unter Verwendung der ersten Position.Weiterhin betrifft die Erfindung eine entsprechende Bestrahlungsplanungseinrichtung.The method involves setting a target volume (11) and determining an initial position of a proximal ISO-energy layer (13) with respect to the target volume. The position of ISO-energy layers (17, 18) distal to the proximal ISO-energy layer with respect to target volume is determined using the determined initial position of proximal ISO-energy layer. An independent claim is included for device for treatment planning for particle therapy-irradiation procedure.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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