流体处理模组
- 专利权人:
- 首尔伟傲世有限公司
- 发明人:
- 李宰昊,崔载荣,郑雄基,韩奎源
- 申请号：
- CN201980003018.8
- 公开号：
- 申请日:
- 2019.25.10
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2020
- 代理人:
- 摘要：
- 流体处理模组包括:排管,提供流体移动的通道,并具有流入口和排出口;光源模组,包括基板和至少一个发光元件,所述发光元件设置在所述基板的前面上,并将处理所述流体的光向所述排管内照射;反射器,设置在所述排管内,对于所述光具有比所述排管高的反射率,并反射来自所述光源模组的所述光;以及散热板,与所述基板的背面接触,以散发所述光源模组的热。所述流入口和所述排出口中至少一个设置为多个,以控制向所述排管内移动的所述流体的移动速度以及移动方向,所述散热板具有比所述基板的热传导率大的热传导率。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
