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提高芍药盆花观赏品质的方法
专利权人:
苏州园林发展股份有限公司
发明人:
赵大球,祝燕,陶俊,史旻
申请号:
CN201611176582.4
公开号:
CN106717932A
申请日:
2016.12.19
申请国别(地区):
中国
年份:
2017
代理人:
王玉国
摘要:
本发明公开了提高芍药盆花观赏品质的方法,选择植株根系完整、健壮、无病虫害的3年生以上芍药苗;采用通气性能好、利于植株生长的花盆;用由泥炭、园土、蛭石和珍珠岩混合构成的基质;上盆前用多菌灵作为基质杀虫杀菌剂和生根粉的混合溶液浸根;在花盆底部铺一层陶粒垫排水孔,然后铺上基质,将处理好的芍药植株放入、扶正,填入基质,并轻轻提苗、晃动、按压,使盆中基质更严实,栽植高度以植株鳞芽与盆口平齐为准;上盆后第一次用清水将植株浇透,早春芽萌动后,结合浇水轻施一次含氮的液体肥;在现蕾后、开花前,施叶面肥;光线不足时需每天补光。提高盆栽芍药的整体观赏品质,种植出的盆栽芍药株形紧凑,花茎挺立,花量大,花色艳丽。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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