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Methods and Compositions for Reducing Immunogenicity of Chimeric NOTCH Receptors
专利权人:
セル デザイン ラボ インコーポレイテッド
发明人:
ギルバート エイミー,スレプシキン ウラジミール,エムテージ ピーター,レブスカヤ アンセルム,スコット スペンサー
申请号:
JP2019569872
公开号:
JP2020527032A
申请日:
2018.06.19
申请国别(地区):
JP
年份:
2020
代理人:
摘要:
The present invention relates to methods and compositions that reduce the immunogenicity of chimeric Notch receptors, and in particular to transcription factors useful for controlling gene expression delivered to tissues by such chimeric Notch receptors. [Selection diagram] Fig. 1本発明は、キメラNotch受容体の免疫原性を低下させる方法及び組成物に関し、特に、かかるキメラNotch受容体によって組織に送達される遺伝子発現を制御するのに有用な転写因子に関する。【選択図】図1
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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