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피부 자극이 저감된 고마쥬 타입 각질 제거용 화장료 조성물
专利权人:
COWAY CO.; LTD.
发明人:
PARK, SOO MINKR,박수민,LEE, SUNG YOUNKR,이승연,CHOI, BONG KIKR,최봉기,HAN, HYUN TAKKR,한현탁,CHO, JIN HUNKR,조진훈
申请号:
KR1020120122886
公开号:
KR1020140055689A
申请日:
2012.11.01
申请国别(地区):
KR
年份:
2014
代理人:
摘要:
The present invention relates to a gommage type exfoliating cosmetic composition, and more specifically, to a gommage type exfoliating cosmetic composition comprising: a resin for forming an acrylic copolymer film and organic acids, and form of the composition is stably formed and maintained without comprising liquefied gas thereby removing dead skin in a dead skin gommage type after being applied to skin and scrubbed. Therefore, irritation to skin is small and dead skin removing speed can be properly adjusted thereby inhibiting skin roughness, skin tone imbalance, and skin keratonization and promoting skin turn-over so as to implement better skin.COPYRIGHT KIPO 2014본 발명은 고마쥬 타입 각질 제거용 화장료 조성물에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 아크릴계 공중합체 필름 형성용 수지와 유기산을 포함하는 고마쥬 타입 각질 제거용 화장료 조성물로서, 상기 조성물은 액화 가스를 포함하지 않아도 폼이 안정하게 형성 및 유지되어, 피부에 대고 문지른 후 각질 고마쥬 타입으로 각질을 제거할 수 있어 피부에 대한 자극이 적을 뿐만 아니라 각질 제거 속도를 적절히 조절할 수 있으며, 피부 거침, 피부톤 불균형, 및 피부 각화 현상을 억제하고 피부 턴오버를 촉진하여 더욱 좋은 피부 구현을 가능케 한다.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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