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清洗设备,辐射源模块和流体处理系统
- 专利权人:
- 特洁安科技有限公司
- 发明人:
- 乔治·特劳本贝格,艾伦·阿彻,克里斯蒂亚·莫格兰
- 申请号：
- CN201080051184.4
- 公开号：
- CN102596436A
- 申请日:
- 2010.11.10
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2012
- 代理人:
- 摘要：
- 描述有一种用于流体处理系统中的表面（例如，辐射源组件）的清洗设备。该清洗设备的较佳实施例包括：用于与表面的至少一部分接触的擦拭构件；连接到用于切削与该表面接触的细长的碎屑的擦拭构件的至少一个切削构件；以及用于在第一位置和第二位置之间移动托架的运动构件。当前清洗设备的这个较佳实施例特别地有利于从配置在流体处理系统中的一个以上的辐射源组件去除细长的碎屑。在当前清洗设备的这个较佳实施例中利用的方法要包含沿着辐射源组件的外部被移动的至少一个切削构件。该切削构件被连接到在第一位置和第二位置之间转移的擦拭构件。当擦拭构件从第一位置被移动到第二位置时，它将倾向于朝向辐射源组件的远端部推动细长的碎屑。在这个转移步骤期间，有可能一些碎屑可以通过切削构件被切削。当擦拭构件接近辐射源组件的远端部时，它将倾向于向下夹住细长的碎屑，以及当移动的力被连续地施加时，该切削构件将切削细长的碎屑。一旦细长的碎屑被切削，将更容易地从辐射源组件离开，而且通过经过辐射源组件的流体流来促进这个动作。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
