This particle-beam therapy system is provided with an exposure compensation device for short-range regions, said exposure compensation device comprising an energy absorber, a first collimator, and a second collimator. The exposure compensation device is characterized by the provision of a mechanism for mounting and removing the energy absorber, the first collimator, and the second collimator. The first collimator is positioned upstream where the beam is narrow, thereby keeping the width of the compensation device down and helping reduce the form factor and weight thereof. The second collimator is positioned downstream, thereby helping reduce the size of the penumbra.L'invention concerne un système de thérapie à faisceaux de particules qui est muni d'un dispositif de compensation d'exposition pour les régions à courte portée, ledit dispositif de compensation d'exposition comprenant un absorbeur d'énergie, un premier collimateur et un second collimateur. Le dispositif de compensation d'exposition se caractérise en ce qu'il comprend un mécanisme pour monter et retirer l'absorbeur d'énergie, le premier collimateur et le second collimateur. Le premier collimateur est placé en amont où le faisceau est étroit, ce qui réduit la largeur du dispositif de compensation et contribue à réduire son facteur de forme et son poids. Le second collimateur est placé en aval, ce qui contribue à réduire la dimension de la pénombre.本発明の粒子線治療システムはエネルギー吸収体、第一のコリメータ及び第二のコリメータで構成される短飛程領域への照射補償装置を備えた。前記照射補償装置は前記エネルギー吸収体、第一のコリメータ及び第二のコリメータの着脱機構を備えることを特徴とする。第一のコリメータは、ビーム径の小さな上流側に配置することで前記補償装置の横幅を抑えることができ、短前記補償装置の小型・軽量化に寄与する。第二のコリメータは、下流側に設置することでペナンブラの改善に寄与する。
