一种基于改进遗传算法的平面阵稀疏优化方法

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专利权人:

西安电子科技大学

发明人:

陶海红,张艳艳,马慧慧

申请号：

CN201810696209.4

公开号：

CN109031216A

申请日:

2018.06.29

申请国别(地区):

中国

年份:

2018

代理人:

惠文轩

摘要：

本发明公开了一种基于改进遗传算法的平面阵稀疏优化方法，能够实现在约束主瓣增益和主瓣宽度的条件下方向图主副比最大，其思路为：确定待稀疏优化的平面阵列，并得到待稀疏优化的矩阵阵列，进而根据待稀疏优化的矩阵阵列得到个体向量；设置稀疏率、群体规模、种群繁殖最大代数、遗传过程迭代次数，以及变异概率；然后执行遗传过程直至遗传过程结束，遗传过程结束时得到Time个个体和Time个适应值以及适应值平均值最终结果AveValue和适应值标准差最终结果StaDeviation，并根据所述Time个个体和所述Time个适应值，得到最优个体Child_max和最优适应值f_max；所述最优个体Child_max、最优适应值f_max、适应值平均值最终结果AveValue和适应值标准差最终结果

来源网站：

中国工程科技知识中心

来源网址：

http://www.ckcest.cn/home/