Es wird ein bildgebendes System mit einer Strahlungsquelle zum Aussenden von Strahlung, einem Strahlungsdetektor mit einer regelmäßigen Anordnung von Detektorelementen und einer Schattenmaske mit einem sich regelmäßig wiederholenden Muster angegeben. Die Schattenmaske und der Strahlungsdetektor sind so angeordnet, dass durch die Strahlung am Ort des Detektors eine Projektion des Musters der Schattenmaske erzeugt wird. Eine räumliche Wiederholungslänge der Projektion des Musters weicht von dem Zweifachen einer räumlichen Wiederholungslänge der Anordnung der Detektorelemente ab. Weiterhin wird ein Verfahren angegeben, bei dem ein solches bildgebendes System verwendet wird, um mit Hilfe des Strahlungsdetektors eine durch ein zu untersuchendes Objekt bewirkte Verschiebung der Projektion des Musters der Schattenmaske am Ort des Strahlungsdetektors zu vermessen.It is an imaging system with a radiation source for emitting radiation, a radiation detector with a regular arrangement of detector elements and a shadow mask with a regularly repeating patterns. The shadow mask and the radiation detector are arranged in such a way that, by means of the radiation at the location of the detector is a projection of the pattern of the shadow mask is produced. A spatial repetition length of the projection of the pattern differs from the double a spatial repetition length of the arrangement of the detector elements ab. Furthermore, a method is disclosed, in which such an imaging system is used, with the aid of the radiation detector a by means of an object to be examined the displacement of the projection of the pattern of the shadow mask to be measured at the location of the radiation detector.
