一种高浓度人工负离子发射装置
- 专利权人:
- 郭战立
- 发明人:
- 郭战立
- 申请号：
- CN201520285665.1
- 公开号：
- CN204558889U
- 申请日:
- 2015.05.06
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2015
- 代理人:
- 摘要：
- 一种高浓度人工负离子发射装置，它涉及负离子发射技术领域，玻璃前面板上设有负离子发射口，所述的尖端发射板上的发射针针尖与玻璃前面板之间的距离为0.35cm；所述的负离子发射口的中心与负离子发射口的最远点的距离L1为0.65cm，与负离子发射口的最近点的距离L2为0.47cm。它结构简单，设计合理，操作方便，可以有效防止结构内产生电联，使负离子散发集中，可释放高浓度负离子，且负离子散发的距离更远。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
