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一种在钙磷陶瓷材料表面修饰RGD的方法
专利权人:
清华大学
发明人:
昝青峰,庄媛,王晨,董利民,王贤刚,田杰谟,李兆新
申请号:
CN201210135454.0
公开号:
CN102716513A
申请日:
2012.05.02
申请国别(地区):
CN
年份:
2012
代理人:
摘要:
本发明公开了一种在钙磷陶瓷材料表面修饰RGD的方法,包括以下步骤:a)提供钙磷陶瓷;b)将所述钙磷陶瓷置于草酸水溶液中以使所述钙磷陶瓷表面和所述草酸水溶液反应,反应后取出钙磷陶瓷;c)将与所述草酸水溶液反应后的钙磷陶瓷置于EDC/NHS的氯仿溶液中反应,反应后取出钙磷陶瓷;d)将与所述EDC/NHS的氯仿溶液反应后的钙磷陶瓷置于RGD的乙醇水溶液中反应,得到增强RGD修饰效果的钙磷陶瓷。根据本发明实施例的方法,使RGD通过化学键与钙磷陶瓷材料表面结合,结合力得到有效提高;该方法不在钙磷陶瓷材料表面引入毒性基团,不影响其在生物医用领域的使用;并且本发明所述修饰RGD的方法操作简单易行,可降低成本。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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