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用于测量、表征和分析周期性结构的x射线方法
专利权人:
斯格瑞公司
发明人:
西尔维娅·贾·云·路易斯,云文兵,雅诺什·科瑞
申请号:
CN201580026529.3
公开号:
CN107076682A
申请日:
2015.05.15
申请国别(地区):
CN
年份:
2017
代理人:
摘要:
x射线照射的周期性空间图案用于收集关于周期性物体的信息。可以使用相干的或部分相干的x射线源与分束光栅的相互作用来创建具有周期性结构的Talbot干涉图案,以创建结构化照射。然后将要测量的具有周期性结构的物体放置到该结构化照射中,并且分析来自多个照射点的信号的集合以确定物体及其结构的各种性质。对于x射线吸收/透射、小角度x射线散射、x射线荧光、x射线反射和x射线衍射的应用都可以使用本发明的方法。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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