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盆景四季桂快速培育的穴盘基质及使用方法
专利权人:
中国科学院南京土壤研究所
发明人:
董元华,刘肖肖,李建刚
申请号:
CN201210571039.X
公开号:
CN103053395B
申请日:
2012.12.26
申请国别(地区):
中国
年份:
2014
代理人:
唐循文
摘要:
盆景四季桂快速培育的穴盘基质及使用方法,包括有机物料与矿物材料,有机物料与矿物材料的体积比为9:1-3:7,所述矿物材料为珍珠岩、蛭石中的一种或其混合物,所述有机物料为蚯蚓粪、泥炭或发酵无害化完全的畜禽粪;所述泥炭水分不超过25%wt,有机质不低于60%wt。扦插40天后,所配基质四季桂插穗生根率可达到80-90%,且根系布满扦插穗。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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