您的位置: 首页 > 农业专利 > 详情页

TECHNIQUE FOR ADAPTING GRAFT WITH SILICON CHAMBER
专利权人:
PAVLYSHYN ANDRII VOLODYMYROVYCH
发明人:
PAVLYSHYN ANDRII VOLODYMYROVYCH,Павлишин Андрей Владимирович
申请号:
UA201209325
公开号:
UA77349U
申请日:
2012.07.30
申请国别(地区):
UA
年份:
2013
代理人:
摘要:
A technique for adapting the graft with silicon chamber provides for the use of silicon frame placed onto the graft for its fixation and the optimal pressure applied to the skin graft. The frame allows for preventing the drying of the wound improving the graft retention.Способ адаптации трансплантата силиконовой камерой, состоящей из силиконового каркаса, который расположен на трансплантате, фиксирует и создает оптимальное давление на кожный трансплантат, плотно прилегает к коже, предупреждая пересыхание раны, что значительно улучшает процесс приживления трансплантата.Спосіб адаптації трансплантата силіконовою камерою, що складається з силіконового каркаса, що розташований на трансплантаті, фіксує та створює оптимальний тиск на шкірний трансплантат, щільно прилягає до шкіри, попереджаючи пересихання рани, що значно покращує процес приживлення трансплантата.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

意 见 箱

匿名:登录

个人用户登录

找回密码

第三方账号登录

忘记密码

个人用户注册

必须为有效邮箱
6~16位数字与字母组合
6~16位数字与字母组合
请输入正确的手机号码

信息补充