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APPLICATOR RESTRICTING MOVABLE RANGE OF PLUNGER BY RESISTANCE STRUCTURE
专利权人:
PENTEL CORP;ぺんてる株式会社;株式会社松風;SHOFU INC
发明人:
TAKEI RYOJI,武井 亮二,YONEDA AKIRA,米田 晶,SAKAMOTO SHUJI,坂本 秀二,KADOBAYASHI ISAO,門林 勇生
申请号:
JP2015140832
公开号:
JP2017018504A
申请日:
2015.07.14
申请国别(地区):
JP
年份:
2017
代理人:
摘要:
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an applicator preventing a plunger from being easily detached from a cylindrical syringe and being more inexpensive than a conventional applicator.SOLUTION: A cylindrical syringe 5 and a plunger 7 are molded with resin. A resistance structure is arranged between an inner peripheral face of the cylindrical syringe 5 and an outer peripheral face of a pressing part 72 of the plunger 7, the resistance structure serving as resistance to movement of the pressing part 72 to a cartridge fitting part 52 side when the pressing part 72 is moved to the cartridge fitting part 52 side beyond a predetermined position P and serving as resistance to movement of the pressing part 72 from the cartridge fitting part 52 side to the other edge side of the cylindrical syringe 5 beyond the predetermined position P.SELECTED DRAWING: Figure 5【課題】プランジャが筒状シリンジから容易に抜けることがない従来よりも安価なアプリケータを提供する。【解決手段】筒状シリンジ5とプランジャ7を樹脂で成形する。筒状シリンジ5の内周面及びプランジャ7の押圧部72の外周面との間に、押圧部72が所定の位置Pを越えてカートリッジ嵌合部52側に移動する際に押圧部72がカートリッジ嵌合部52側に移動することに対する抵抗となり、押圧部72が所定の位置Pを越えてカートリッジ嵌合部52側から筒状シリンジ5の他端側に移動することに対する抵抗となる抵抗構造を設ける。【選択図】 図5
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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