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一种荧光分子断层成像可行域优化方法
专利权人:
西北大学
发明人:
宋小磊,焦璞,易黄建,梁嘉翔,赵凤军,曹欣,贺小伟,侯榆青
申请号:
CN201910014241.4
公开号:
CN109820479A
申请日:
2019.08.01
申请国别(地区):
CN
年份:
2019
代理人:
摘要:
本发明属于光学分子成像技术领域,公开了一种荧光分子断层成像可行域优化方法;使用有限元计算软件对仿体进行四面体网格划分,建立表面测量值与内部荧光目标分布的线性关系;利用不完全变量截断共轭梯度法、共轭梯度最小二乘法求解系统方程,得到两组重建结果;根据三支决策理论划分出两组重建结果的正域,合并构成目标可行区,作为下一级重建的区域;再次使用不完全变量截断共轭梯度法、共轭梯度最小二乘法进行重建,得到改进后的最终结果。本发明采用两种不同的重建算法进行重建;提取出两组结果中的正域;在此区域内完成最终重建。本发明能够获取到准确的目标范围区域,有效缓解了问题的病态性,上述两种重建方法的图像质量均得到明显提升。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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