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物質投与用インプラント及びインプラントの製造方法
专利权人:
サイメデイカ リミテツド
发明人:
リー・トレバー・キヤナム,クリストフアー・ポール・バレツト,アンドリユー・ポール・バウデイツチ,テイモシー・イングラム・コツクス,ピーター・ジヨン・ライト
申请号:
JP2010050426
公开号:
JP5090487B2
申请日:
2010.03.08
申请国别(地区):
JP
年份:
2012
代理人:
摘要:
Resorbable porous or polycrystalline silicon implants impregnated with a beneficial substance can be used for slow release of a substance over a long time. Porous or polycrystalline implants, particularly of silicon, impregnated with a beneficial substance are new. Independent claims are included for the following: (a) a method of impregnating a porous semiconducting material with a substance by allowing molten impregnate substance to pass into the pores of the semiconductor (b) implants having a large number of holes which contain beneficial substance and which are closed by bio erodable doors of different thickness, to stagger the release of the beneficial substance over time as the doors are breached.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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