具有四周封闭的腔挤压型材的真空设备
- 专利权人:
- 克里斯托夫-赫伯特·迪纳
- 发明人:
- 克里斯托夫-赫伯特·迪纳
- 申请号：
- CN201580038540.1
- 公开号：
- CN106537551B
- 申请日:
- 2015.07.13
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2018
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明涉及一种真空设备(10)，特别是等离子设备形式的真空设备。所述真空设备(10)具有真空腔(12)。真空腔(12)构造成连续封闭的腔挤压型材的形式。腔挤压型材的第一端侧优选用板件封闭。腔挤压型材的与第一端侧相对置的第二端侧具有能可逆地打开和关闭的门(16)。所述门(16)优选通过至少一个铰链(18、20)能摆动地固定在腔挤压型材上。横向于腔挤压型材的纵轴线完全封闭的侧壁使得能够简单且经济地制造真空腔(12)。优选真空腔(12)至少部分地容纳在壳体(14)中，所述壳体至少部分地同样构造成挤压型材的形式。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
