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COMPOSITION COMPOSITE
专利权人:
KIT CO. LTD.;株式会社KIT;BOSQUET SILICON CORP.;株式会社ボスケシリコン
发明人:
KOBAYASHI, Hikaru,小林光,KOBAYASHI, Yuki,小林悠輝
申请号:
JPJP2019/014285
公开号:
WO2019/211960A1
申请日:
2019.03.29
申请国别(地区):
JP
年份:
2019
代理人:
摘要:
One composite composition according to the present invention includes: silicon fine particles; and a silicon sub-oxide (SiOX, where x in the formula is 1/2, 1, or 3/2) and/or a mixed composition of the silicon sub-oxide and silicon dioxide, at least partially covering the surfaces of the silicon fine particles.Selon la présente invention, une composition composite comprend : des particules fines de silicium; et un sous-oxyde de silicium (SiOX, où x dans la formule est 1/2, 1, or 3/2) et/ou une composition mixte du sous-oxyde de silicium et du dioxyde de silicium, recouvrant au moins partiellement les surfaces des particules fines de silicium.本発明の1つの複合組成物は、シリコン微細粒子と、該シリコン微細粒子の表面の少なくとも一部を覆うシリコンサブオキサイド(SiOX,式中のxは、1/2、1、及び3/2)及び/又は該シリコンサブオキサイドと二酸化シリコンとの混合組成物と、を含む。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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