一种新型低氘化妆水及其制备方法
- 专利权人:
- 苏州奥特泉水应用技术有限公司
- 发明人:
- 徐志红,桂媛,沈佳宇,瞿敏
- 申请号：
- CN201510953237.6
- 公开号：
- CN105476876A
- 申请日:
- 2015.12.17
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2016
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明公开了一种低氘化妆水，由以下原料按重量份数组成：25ppm的低氘水55～75份、甘油5～15份、酒精4～7份、三甲基甘氨酸1～3份、透明质酸钠0.2～0.5份、玻尿酸钠0.1～0.3份、对羟基苯甲酸甲酯0.1～0.3份。本发明制备的化妆水具有保湿、抗衰老、抗辐射、滋润皮肤等功效。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
