The present invention relates to a continuous sterilizing apparatus for powder comprising: an input unit which supplies a target to be treated with powder type a discharging unit which is separately placed and discharges the target to be treated a fixed discharge electrode which is disposed on an upper portion of a moving section of the target to be treated formed between input unit and the discharging unit a ground electrode which is disposed on an lower portion of the moving section and generates a plasma discharge with the fixed discharge electrode and a dielectric barrier which guides the target to be treated by being disposed on left and right side surfaces along the moving section and supports plasma treatment to the target to be treated disposed on left and right ends, wherein the target to be treated which is input into the input unit can directly exposure to the plasma generated between the fixed discharge electrode and the ground electrode moving section when passing through the moving section.COPYRIGHT KIPO 2015연속식 분말살균처리장치는, 피처리대상물을 분말 형태로 공급하는 투입부, 투입부로부터 이격 배치되며, 피처리대상물이 배출되는 배출부, 투입부 및 배출부 사이에 형성되는 피처리대상물의 이동구간 상부에 배치되는 고정식 방전전극, 이동구간 하부에 배치되어 고정식 방전전극과 함께 플라즈마 방전을 일으키는 접지전극, 및 이동구간을 따라서 좌우 측면에 배치되어 피처리대상물을 안내하고 좌우 끝에 위치한 피처리대상물까지 플라즈마로 처리되도록 보조하는 유전체 배리어를 포함할 수 있고, 투입부로 투입되는 피처리대상물이 이동구간을 경유하면서 고정식 방전전극 및 접지전극 사이에서 발생하는 플라즈마에 직접적으로 노출될 수 있다.
