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POSS MQ-T Method for preparation of MQ-T silicone resin using polyhedral oligomeric silsesquioxanesPOSS
专利权人:
COSMAX, INC.;코스맥스 주식회사
发明人:
김시내,박명삼,신병모,김성용,KIM SI NAE,PARK MYEONG SAM,SHIN BYOUNG MO,KIM SUNG YONG
申请号:
KR1020180062427
公开号:
KR1020190136553A
申请日:
2018.05.31
申请国别(地区):
KR
年份:
2019
代理人:
摘要:
This invention relates to the silicone type film formation composition used for cosmetics. MQ-T silicone resin of the present invention is obtained through a systemic reaction using a polyhedral oligomeric silsesquioxane (POSS) combined with a silicone MQ resin and a hydrocarbon compound, the advantage of not using a solvent that cannot be used in cosmetics There is this. In addition, the resin obtained in this way has its own stability at high temperature, oxidation stability by ultraviolet rays, breathability and adhesiveness, properties that do not appear when applied to cosmetics, compatibility with oils used in cosmetics, adhesion, and spreading. It has excellent properties of flexibility, durability and durability.본 발명은, 화장품에 사용되는 실리콘계 필름 형성 조성물에 관한 것이다. 본 발명의 MQ-T실리콘 레진은 실리콘 MQ 레진과 탄화수소화합물이 결합된 다면체 올리고머 실세스퀴옥산(POSS)을 이용하여 전신반응을 통해 얻어지는 것으로서, 화장품에 사용이 불가한 용매를 사용하지 않아도 되는 장점이 있다. 또한, 이렇게 하여 얻어지는 레진은 자체적으로는 고온에서의 안정성, 자외선에 의한 산화 안정성, 통기성 및 접착성을 가지며, 화장품에 적용 시 묻어나지 않는 특성, 화장품에 사용되는 오일과의 상용성, 밀착성, 펴짐성, 유연성 및 지속성이 우수한 특성을 가진다.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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