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PROCÉDÉ DE PURIFICATION, DISPOSITIF DE PURIFICATION ET SYSTÈME DE PURIFICATION
专利权人:
PANASONIC INTELLECTUAL PROPERTY MANAGEMENT CO., LTD.;パナソニックIPマネジメント株式会社
发明人:
SAKAGUCHI Yoshihiro,坂口義弘,MIYASHITA Mariko,宮下万里子
申请号:
JPJP2019/004693
公开号:
WO2019/167594A1
申请日:
2019.02.08
申请国别(地区):
JP
年份:
2019
代理人:
摘要:
A purification method according to one embodiment of the present disclosure involves: determining a target location to be reached by a sprayed material which is sprayed from a sprayer; determining whether or not the sprayed material contacts an object during the interval from when the sprayed material is sprayed by the sprayer until reaching the target location, on the basis of object location information obtained by a first sensor; and controlling, on the basis of the determination results, in a manner such that the sprayer sprays the sprayed material in a range which includes the target location.La présente invention concerne un procédé de purification impliquant : la détermination d'une localisation cible à atteindre par un matériau pulvérisé qui est pulvérisé à partir d'un dispositif de pulvérisation ; la détermination du fait ou non que le matériau pulvérisé entre en contact avec un objet durant l'intervalle à partir du moment où le matériau pulvérisé est pulvérisé par le dispositif de pulvérisation jusqu'à l'atteinte de la localisation cible, sur la base des informations de localisation d'objet obtenues par un premier capteur ; et la commande, sur la base des résultats de détermination, d'une manière telle que le dispositif de pulvérisation pulvérise le matériau pulvérisé dans une plage qui comprend la localisation cible.本開示の一態様に係る浄化方法では、噴射装置から噴射される噴射物を到達させる目的位置を決定し、第1センサにより得られた物体の位置情報に基づいて、噴射物が噴射装置から噴射されてから目的位置に到達するまでの期間に、噴射物に物体が接触するか否かを判定し、判定の結果に基づき、噴射装置が目的位置を含む範囲に噴射物を噴射するのを制御する。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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