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一种利用半导体光刻技术制备精密吸入给药雾化器方法
- 专利权人:
- 亿索智能科技(上海)有限公司
- 发明人:
- 石磊,徐蕴
- 申请号：
- CN202011642747.9
- 公开号：
- CN114681724A
- 申请日:
- 2020.12.30
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2022
- 代理人:
- 摘要：
- 一种利用半导体光刻技术制备精密吸入给药雾化器方法，尤其涉及一种基于半导体光刻技术制备的雾化微孔板。精密吸入给药雾化器包括基于半导体光刻技术制备的雾化微孔板、加强基板及固定装置。本发明通过以下步骤进行：步骤一、利用半导体光刻技术在所述雾化微孔板上刻蚀数个贯穿小孔。步骤二、利用激光刻蚀或者机械钻孔方式在所述加强基板上制作数个贯穿小孔。步骤三、将雾化微孔板和加强基板重叠置入固定装置内制成雾化器。本发明通过在雾化微孔板上刻蚀孔径可控的数个贯穿小孔，其使装置喷出的雾化液滴更为细密，其动态粒径位于0.5‑6微米范围内，使药物更易吸入肺部，同等剂量的药物溶液喷射时间更长，比传统雾化器具有治疗性和协同性更好的特点。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
