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IMPLANT UNIT
专利权人:
KIM, KWANG SEOB; KWANG SEOB;KIM;김광섭
发明人:
KIM, KWANG SEOB,김광섭,KIM, KWANG SEOBKR
申请号:
KR1020140062128
公开号:
KR1020150134833A
申请日:
2014.05.23
申请国别(地区):
KR
年份:
2015
代理人:
摘要:
The present invention relates to an implant unit. According to an embodiment of the present invention, an implant unit comprises: an artificial dental root including a gap for reducing stress defined by a trench coupled to an alveolar bone and formed from a partial region of the edge in the depth direction; and an abutment coupled to the upper end unit of the artificial dental root. Disclosed is an implant unit, wherein the artificial dental root additionally includes a gap for reducing stress formed outside a screw.본 발명은 임플란트 유닛에 관한 것이다. 본 발명의 일 실시예에 따른 임플란트 유닛은, 치조골에 결합되고 가장자리 일부 영역에서 깊이 방향으로 형성된 트렌치에 의해 정의되는 응력 감소용 갭을 포함하는 인공 치근; 및 상기 인공 치근의 상단부에 결합되는 지대주를 포함한다. 포함하고, 상기 인공 치근은 상기 스크류의 외측에 형성된 응력 감소용 갭을 더 포함함하는 임플란트 유닛을 개시한다.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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