作为除草剂的新的吡咯烷-2-硫酮衍生物

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专利权人:

曾尼卡有限公司

发明人:

N·J·巴尼斯,R·A·巴伯

申请号：

CN95193385.X

公开号：

CN1149868A

申请日:

1995.05.26

申请国别(地区):

中国

年份:

1997

代理人:

谭明胜

摘要：

式(I)化合物，R¹和R²各自独立地是氢、任选取代的低级烃基或任选取代的杂芳基，或者R¹和R²与它们相连的氮原子一起形成一个杂环；R³、R⁴、R⁵和R⁶各自独立地是氢或C_1-4烷基；Z代表卤素、任选取代的低级烃基、任选取代的低级烃氧基、任选取代的低级烃硫基、烃基亚磺酰基、烃基磺酰基、氰基、硝基、CHO、NHOH、ONR^7′R^7″、SF₅、CO-任选取代的低级烃基、酰氨基、COOR⁷、SO₂NR⁸R⁹、CONR¹⁰R¹¹、OR¹²或NR¹³R¹⁴，其中R⁷、R^7′、R^7″、R⁸、R⁹、R¹⁰和R¹¹独立地是氢或低级烃基；R¹²是氢、SO₂-低级烃基或COR¹⁵；R¹³和R¹⁴独立地是低级烃基、低级烃氧基或基团R¹²；R¹⁵是OR¹⁶、NR¹⁷R¹⁸、氢或低级烃基；R¹⁶是低级烃基，R¹⁷和R¹⁸独立地是氢或低级烃基，前提是当有两个或多个取代基Z时，它们可相同或不同；和m是0或整数1-5。

来源网站：

中国工程科技知识中心

来源网址：

http://www.ckcest.cn/home/