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一种降低红薯的种植生长周期的山间种植红薯的方法
专利权人:
任红
发明人:
任红
申请号:
CN201710522656.3
公开号:
CN107223440A
申请日:
2017.06.30
申请国别(地区):
中国
年份:
2017
代理人:
摘要:
本发明提供一种降低红薯的种植生长周期的山间种植红薯的方法,包括如下步骤:1)平地:选择在质地疏松,排水良好的山地,土壤pH在7,土层深度在45cm,去除杂草,平整土地;2)刨土:开挖步骤1)的土层进行刨土操作,刨土深度为40cm,开挖栽植穴的深度为35cm,每行种植的行间距为250cm,并施加水,使表面土壤湿润即可;3)施肥:在红薯茎幼苗种植之前,每个栽植穴底部施入氮肥,并在种植的幼苗根部填盖砂石15cm;于竖年施肥1‑2次;4)灌溉:红薯茎幼苗每11天浇水一次,每次浇足。通过本发明提供的种植方法能够有效降低红薯的种植生长周期,便于农业上推广。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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