The present disclosure is directed to an ocular implant system having an implant 200 deployed in the posterior space of the eye, for example a choroidal or subconjunctival space or an intraocular space, and having access into the anterior chamber 160 to reduce intraocular pressure therein. / RTI >； Shunt 200 is implanted using an implant device including a hollow shaft 330 mounted on a fixed shaft 320. The shunt 200 is located at the distal end of the hollow shaft 330 and is located adjacent the distal end of the fixed shaft 320 and the distal end of the fixed shaft is located at a position behind the distal end of the hollow shaft. When the distal end of the hollow shaft 330 having the shunt 200 is positioned at a desired depth in the rear space, the hollow shaft is moved away from the shunt in the retreat space through the fixed shaft toward its proximal end, It can be accessed from within.본원은 임플란트(200)가 눈의 후방 공간, 예를 들어 맥락막 상공간 또는 결막 아래 공간 또는 공막내 공간에 전개되고, 그 안의 안압을 감소시키기 위해 전방 챔버(160) 내로의 접근을 가진 안구 임플란트 시스템이 개시된다. 션트(200)는 고정된 샤프트(320) 위에 장착된 중공 샤프트(330)를 포함하는 임플란트 장치를 사용하여 이식된다. 션트(200)는 중공 샤프트(330)의 원위 단부에 위치하며 고정된 샤프트(320)의 원위 단부에 인접하여 위치하며, 고정된 샤프트의 원위 단부는 중공 샤프트의 원위 단부 뒤의 위치에 위치한다. 션트(200)를 갖는 중공 샤프트(330)의 원위 단부가 후방 공간 내의 원하는 깊이에 위치되면, 중공 샤프트는 그 근위 단부를 향해 고정된 샤프트를 통해 후퇴 공간에서 션트를 떠나게 된고, 전방 챔버(160) 내에서 접근할 수 있다.
