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Skin treatment including patterned light
专利权人:
Nathan P. Myhrvold;Muriel Y. Ishikawa;Lowell L. Wood, Jr.;Edward K. Y. Jung;Bran Ferren
发明人:
Bran Ferren,Muriel Y. Ishikawa,Edward K. Y. Jung,Nathan P. Myhrvold,Lowell L. Wood, Jr.
申请号:
US11143925
公开号:
US08157807B2
申请日:
2005.06.02
申请国别(地区):
US
年份:
2012
代理人:
摘要:
Methods and systems for treating skin for aesthetic or health purposes are described. According to various embodiments, photoresponsive materials and light are delivered in a controlled fashion to produce a patterned distribution of a material in the skin.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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