一种便于清洁全面按摩的足疗盆
- 专利权人:
- 张伟强
- 发明人:
- 张伟强
- 申请号：
- CN202111249131.X
- 公开号：
- CN113855532A
- 申请日:
- 2021.10.26
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2021
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明涉及理疗器具领域，具体是一种便于清洁全面按摩的足疗盆，包括浴盆体，所述浴盆体一侧水平方向设置有排水管夹，所述浴盆体外在排水管夹下方设置有用于排水的放水管，所述放水管上端被排水管夹夹住，所述浴盆体远离放水管一侧开设有足疗槽，所述足疗槽内安装有足浴盆，所述足浴盆中间设置有用于对两只脚限位的分隔带，所述分隔带内开设有放置药包的药包槽，所述分隔带两侧分别对称设置有一足背按摩盖；这样的设置使得足疗过程中可以固定药包不妨碍足疗过程同时完成足疗后可以最大限度利用足浴盆带走药渣等固体物质，并且在足底按摩同时可以对足背进行按摩和蒸汽加热促进血液循环。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
