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VERTEBRAL IMPLANT, IMPLANT VERTEBRAL FIXATION DEVICE AND IMPLANTATION INSTRUMENTATION
专利权人:
LDR MEDICAL
发明人:
SAMUEL LEQUETTE,HERVE DINVILLE
申请号:
FR1354421
公开号:
FR3005569A1
申请日:
2013.05.16
申请国别(地区):
FR
年份:
2014
代理人:
摘要:
The present invention relates to a vertebral implant (1), a vertebral implant fixation device and implantation instrumentation, the implant comprising a peripheral wall and extending along a vertical axis between upper and lower surfaces of the implant. implant (1) intended, each to be placed in contact with a vertebral structure, respectively, upper and lower vertebral segment replaced by the implant (1), characterized in that it comprises fixing means (5, 8), the deployment of which allows the implant to be anchored in the said lower and upper vertebral structures, each of the said fastening means (5, 8) being slidably deployed parallel to the vertical axis of the implant (1) and comprising on the one hand, at least one plate (52, 82) of which at least a part remains in contact with the peripheral wall of the implant (1) at the end of the deployment and, on the other hand, at least one end pointed (51, 81) d spanning one of the upper and lower surfaces of the implant (1) to enter one of said vertebral structures at the end of the deployment. La pr?sente invention concerne un implant vert?bral (1), un dispositif de fixation d'implant vert?bral et une instrumentation d'implantation, l'implant comprenant une paroi p?riph?rique et s'?tendant selon un axe vertical entre des surfaces sup?rieure et inf?rieure de l'implant (1) destin?es, chacune, ? ?tre plac?es au contact d'une structure vert?brale, respectivement, sup?rieure et inf?rieure au segment vert?bral remplac? par l'implant (1), caract?ris? en ce qu'il comporte des moyens de fixation (5, 8) dont le d?ploiement permet l'ancrage de l'implant dans lesdites structures vert?brales inf?rieure et sup?rieure, chacun desdits moyens de fixation (5, 8) ?tant d?ploy? par coulissement parall?lement ? l'axe vertical de l'implant (1) et comprenant, d'une part, au moins une plaque (52, 82) dont au moins une partie reste au contact de la paroi p?riph?rique de l'implant (1) ? la fin du d?ploiement et, d'autre part, au moi
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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