Abstract invention patent: \"polymer graft organopolissiloxano\".The present invention relates to a polymer graft organopolissiloxano including a segment of organopolissiloxano as a main chain of the same and a segment of copolymer derived from unsaturated monomer containing a repeating unit derived from an unsaturated monomer containing A carboxylic acid or a salt of carboxylic acid as a side chain of the same.In which the content of organopolissiloxano segment in the polymer graft organopolissiloxano varies from 35 to 59% by weight, the content of the repetitive unit derived from unsaturated monomer containing a carboxylic acid or a salt of carboxylic acid in the polymer graft organopolissiloxano Varies from 4 to 17% by mass.And the content of the repeating unit derived from an unsaturated monomer whose homopolymer has a glass transition point of at least 150 \u00b0 C (except for the unsaturated monomer containing a carboxylic acid or a salt of the carboxylic acid) in the polymer graft is organopolissiloxano A maximum of 14% by mass, and the numerical average molecular weight of organopolissiloxano segment is at least 8.000 and up to 200000.resumo patente de invenção: "polímero de enxerto de organopolissiloxano". a presente invenção refere-se a um polímero de enxerto de organopolissiloxano incluindo um segmento de organopolissiloxano como uma cadeia principal do mesmo e um segmento de copolímero derivado de monômero insaturado contendo uma unidade repetitiva derivada de um monômero insaturado contendo um ácido carboxílico ou um sal de ácido carboxílico como uma cadeia secundária do mesmo, no qual o teor do segmento de organopolissiloxano no polímero de enxerto de organopolissiloxano varia de 35 a 59% em massa, o teor da unidade repetitiva derivada do monômero insaturado contendo um ácido carboxílico ou um sal de ácido carboxílico no polímero de enxerto de organopolissiloxano varia de 4 a 17% em massa, e o teor da unidade repetitiva derivada de um monômero insatura
