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DENTAL IMPLANT THAT INCREASES BONE SUPPORT
专利权人:
发明人:
申请号:
EP08866795.1
公开号:
EP2231056B1
申请日:
2008.12.24
申请国别(地区):
EP
年份:
2016
代理人:
摘要:
This describes an implant design that increases the amount of bone around the implant by increasing its length in order to place a longer implant without the need for a sinus elevation surgery in the posterior maxillary region where bone stock is not sufficient by employing the principles of displacement procedures in implantology which rely on regeneration of patients own bone and have been used for years in the dentistry for orthodontic procedures. The implant system we have designed has a pressure adaptor (4) that protrudes and advances through the apical part of the implant. Pressure adaptor (4) is advanced within the bone until desired length of implant and bone is achieved. This procedure forms significant amount of bone around the implant within the floor of maxillary sinus. Floor of maxillary sinus is elevated. New bone is formed without the need for an additional surgery. This implant system can also be used for distraction osteogenesis in sinus floor or other anatomic spaces by a unique application different from distractor implants.La présente invention concerne un modèle dimplant qui augmente la quantité dos autour de limplant. Cela résulte de laugmentation de longueur visant à mettre en place un implant plus long sans quil y ait besoin de chirurgie délévation de sinus dans la région maxillaire postérieure où la quantité dos est insuffisante. À cet effet, on a recours aux principes des procédures de déplacement utilisées en implantologie qui reposent sur la régénération de los propre du patient, lesquels principes sont connus depuis des années en dentisterie pour les procédures orthodontiques. Le système dimplant que nous avons conçu comporte un adaptateur à pression (4) qui dépasse et progresse au travers de la partie apicale de limplant. On fait progresser ladaptateur à pression (4) à lintérieur de los jusquà obtenir la longueur voulue dimplant et dos. Cette procédure permet de former une quantité notable dos autour de limplant à lintérieur du plancher
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/
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