使用羟磷灰石层析除去高分子量聚集体

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专利权人:

惠氏公司

发明人:

S·孙,C·加洛,B·凯利

申请号：

CN201110221442.5

公开号：

CN102276717B

申请日:

2004.10.06

申请国别(地区):

中国

年份:

2015

代理人:

张萍`刘健

摘要：

本发明涉及羟磷灰石层析在从含有高分子量聚集体的制剂纯化至少一种抗体的应用。此外，本发明涉及陶瓷羟磷灰石层析整合到组合层析方案用于从抗体制剂除去高分子量聚集体。

来源网站：

中国工程科技知识中心

来源网址：

http://www.ckcest.cn/home/