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低温气相宏量生长高质量、平直碳纳米管的方法及装置
专利权人:
中国科学院金属研究所
发明人:
侯鹏翔,刘畅,成会明,石超,丛洪涛
申请号:
CN201410140855.4
公开号:
CN103922310B
申请日:
2014.04.09
申请国别(地区):
中国
年份:
2016
代理人:
张志伟
摘要:
本发明涉及碳纳米管的制备技术,具体为一种低温气相宏量生长高质量、平直碳纳米管的方法及其专用装置。催化剂前驱体、生长促进剂、惰性剂粉末在常温下混合均匀,由载气及碳源匀速、极低量输入反应区,反应区为垂直或水平管式炉。其中生长温度为500~1000℃,催化剂前驱体为Fe、Ni或Co的有机化合物、无机盐、纯金属粉末等,供量为2×10-8~2.9×10-7克当量/小时·cm2;生长促进剂为含硫有机物,供量为1×10-10~2.9×10-9克当量/小时·cm2;碳源为小分子碳氢化合物,供量为1×10-5~3.9×10-4克当量碳/分钟·cm2;载气为氩气或氮气或氦气或氢气,供量为1~100ml/分钟·cm2。生长过程中根据需要通入刻蚀剂,实现低成本、低能耗、宏量生产高纯度、高质量、平直、小直径碳纳米管。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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