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两性霉素B半合成衍生物及其制备方法和用途
专利权人:
中国科学院上海药物研究所
发明人:
杨玉社,潜安然,郑亚洲,马慧君
申请号:
CN202110729385.5
公开号:
CN115536716A
申请日:
2021.06.29
申请国别(地区):
CN
年份:
2022
代理人:
摘要:
本发明提供了两性霉素B半合成衍生物及其制备方法和用途。具体地,本发明公开了结构如式V所示的化合物,以及水溶性盐和复合物、药物组合物,以及包含该衍生物的植物和机体治疗产品和他们作为抗真菌抗生素的用途。本发明还公开了上述化合物的制备方法。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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